在2023年的春天，一场突如其来的变革正在中国EDA（电子设计自动化）行业中悄然展开。28纳米芯片的国产光刻机技术已经达到了世界领先水平，而ICCAD竞赛中的奇迹也成为了这一转变的象征。
回顾过去，2014年博士毕业的魏星面临着选择：去美国Cadence、Synopsys或Mentor工作，还是留在国内追求自己的梦想。他最终选择了创业路线，与师兄魏星相比，2019年毕业的陈耿杰与贝泽华显得更加幸运。在那一年，美国对华为实施制裁，使EDA成为中国卡脖子技术，大厂开始招募EDA研发人才，他们有了留在国内发展的机会。
近两年，“EDA人才培养”成为解决“卡脖子”问题的话题焦点。然而，对于当下的人才短缺，大众鲜少讨论，但更值得关注的是：2019年以前，国内EDA人才如何生存？EDA软件公司又是如何夹缝求生？
而EDA人才的去向，从十年前的“大多从事互联网”，到如今“炙手可热、供不应求”，正是国内EDA行业变迁的缩影。魏星和他的团队，在读博期间参加ICCAD竞赛经历，让他们对于ECO工具有了深入了解。
图注：香港科学园
奇捷科技成立后，由于市场认知不足和融资困难，他们遭遇了前所未有的挑战。但经过四年的艰苦研究，奇捷科技推出了第一个ECO工具版本——EasyECO。虽然初期没有受到市场欢迎，但随着国产光刻机技术的进步以及国际环境变化，这款工具逐渐被视为解决芯片设计中逻辑功能更正问题的一种重要方法。
今天，当我们谈及2023年的28纳米芯片国产光刻机时，我们不能忽略这背后的故事。这不是仅仅关于技术进步，更是一个关于人心和坚持不懈精神的小小传奇。在这个自然界充满惊喜的地方，无数人的努力让了一条通往未来之路。而对于那些还在探索这个领域的人们来说，每一步都是历史的一部分，每一次尝试都可能开启新的篇章。
